化学机械抛光工作站 Main View

化学机械抛光工作站

型号: 非标定制

品牌: 自主研发

技术参数:

能够进行碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体基片的加工;加工尺寸为2、4、6英寸兼容;包括抛光盘单元、工件主轴单元、龙门单元、机床罩壳、电器控制柜、启动系统等。


收费标准:

收费标准(自主上机):开机费:0元计时.   收费标准:200元/小时.   

送样检测,样品收费标准:200元/样收费标准:开机费:0元计时.   收费标准:100元/小时.   样品收费标准:0元/样


操作指南:

  1. 检查工作站状态,确保设备正常,抛光垫、供液系统等无异常。
  2. 穿戴防护装备,如手套、护目镜等,确保个人安全。
  3. 将待抛光样品固定在载物台上,调整至抛光垫中心。
  4. 选择合适的抛光液,按比例混合,并注入抛光液槽。
  5. 设置抛光参数,如压力、转速、时间,启动工作站进行抛光。
  6. 抛光过程中监控样品状态,适时调整参数。
  7. 抛光结束后,取出样品清洗、检测,并进行设备保养。